Date Range
Date Range
Date Range
Will be held on October 3-7, 2016. It continues the series of the International Conferences. Si, SOI, DOI, SiGe, A. High-k dielectrics, low-k dielectrics.
Кластерная установка Oxford System 100 Pro. Компания Интек при поддержке специалистов Oxford Instruments Plasma Technology завершили пуско-наладку и технологические испытания установок Plasmalab на площадке лабораторного комплекса ООО НТЦ ТПТ. Новая установка PlasmaPro 1000 Astrea для производства LED и HBLED. Новая установка PlasmaPro Estrelas100 глубокого травления кремния позволяет реализовать как Бош процесс, так и процесс криогенного травления.
SemiTEq released upgraded e-Beam evaporation system STE EB71. SemiTEq released enhanced STE35 MBE system. 18th European Molecular Beam Epitaxy workshop. 5th CS International conference 2015. India National Workshop on III-nitride Materials and Devices.
Will be held during October 1-5, 2012. At the Lipki resort in Zvenigorod, Moscow Region, Russia. It continues the series of the International Conferences. Preliminary list of Invited Speakers is available. SOI, Si, SiGe, A. Thin films, high-k dielectrics, low-k dielectrics.
Will be held during October 6-10, 2014. At the Ershovo resort in Zvenigorod, Moscow Region, Russia. It continues the series of the International Conferences. SOI, Si, SiGe, A. Thin films, high-k dielectrics, low-k dielectrics.
Физики плазмы и плазменных технологий. Форма предварительного заявления на поступление в бакалавриат. Форма предварительного заявления на поступление в магистратуру. Кафедра физики и технологии наногетероструктур. Кафедра физики и технологии наноструктур создана для подготовки научных кадров высшей квалификации в области физики и технологии полупроводниковых наноструктур.
Компании NXP и SONY заявили о создании совместного предприятия MOVERSA, которое будет заниматься продвижением бесконтактных smart-card приложений в мобильных телефонах с применением стандарта NFC. С 1-го февраля начал работать московский офис и склад компании Семитекс.